扩散控制机理
在大多数情况下,添加剂向阴极的扩散(而不是金属离子的扩散)决定着金属的电沉积速率。这是因为金属离子的浓度一般为添加剂浓度的100~105倍,对金属离子而言,电极反应的电流密度远远低于其极限电流密度。
在添加剂扩散控制情况下,大多数添加剂粒子扩散并吸附在电极表面张力较大的凸突处、活性部位及特殊的晶面上,致使电极表面吸附原子迁移到电极表面凹陷处并进入晶格,从而起到整平光亮作用。
电镀时,镀层金属或其他不溶性材料做阳极,待镀的工件做阴极,镀锌,镀层金属的阳离子在待镀工件表面被还原形成镀层。为排除其它阳离子的干扰,镀锌光亮剂,且使镀层均匀、牢固,需用含镀层金属阳离子的溶液做电镀液,以保持镀层金属阳离子的浓度不变。电镀的目的是在基材上镀上金属镀层,改变基材表面性质或尺寸。电镀能增强金属的抗腐蚀性(镀层金属多采用耐腐蚀的金属)、增加硬度、防止磨耗、提高导电性、光滑性、耐热性和表面美观。
添加剂的作用HE-Ni-191A主光剂主要控制镀层的光亮度及填平度。HE-Ni-191A主光剂含量不足时,镀层的光亮度及填平度较差。含量接近上**,碱性无氰镀锌镍光亮剂,镀层的出光速度很快,稍过量(0.65ml/l)也不会显示不良效果。含量**多时,低电流密度区则暗黑。HE-Ni-191B辅助剂作用是减低镀层内应力,增加镀层的柔软性及使低电流密度区的覆盖能力良好。与HE-Ni-191B辅助剂配合使用能获得光亮填平及走位较佳的均匀镍镀层。过低,低电流区走位差;过高,填平度降低。HE-Ni-191A与HE-Ni-191B的添加比例为1:1。